Rapid thermal processing for future semiconductor devices : proceedings of the 2001 International Conference on Rapid Thermal Processing for Future Semiconductor Devices (RTP 2001) held at Ise-Shima, Mie, Japan, November 14-16, 2001

Rapid thermal processing for future semiconductor devices : proceedings of the 2001 International Conference on Rapid Thermal Processing for Future Semiconductor Devices (RTP 2001) held at Ise-Shima, Mie, Japan, November 14-16, 2001

0 Người đánh giá. Xếp hạng trung bình 0

Tác giả: Hisashi Fukuda

Ngôn ngữ: eng

ISBN-10: 0444513396

Ký hiệu phân loại: 621.38152 Electrical, magnetic, optical, communications, computer engineering; electronics, lighting

Thông tin xuất bản: Amsterdam ; London : Elsevier, 2003

Mô tả vật lý: x, 150 p. : , ill. ; , 25 cm.

Bộ sưu tập: Khoa học ứng dụng

ID: 80725

Thêm vào giỏ

1. Rapid thermal processing
2. Semiconductors--Heat treatment

Includes bibliographical references.

1.

Tạo bộ sưu tập với mã QR